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《暗黑地牢2》圖文攻略百科 隊(duì)伍搭配物品裝備流程boss攻略

時(shí)間:2023-05-10 19:08:32
  • 來源:3DM攻略站
  • 作者:耳目一心
  • 編輯:速攻組
0

祭壇

基礎(chǔ)抗性:

40流血,10中毒,20火焰,10震撼,10移動(dòng),10負(fù)面屬性抵抗,0死亡

技能:

1. 否認(rèn)祭壇

類型:BUFF或DEBUFF

位置:? ? ? ???-?-?-?

效果:使目標(biāo)獲得【正面效果】增益

2. 憤怒祭壇

類型:BUFF或DEBUFF

位置:? ? ? ???-?-?-?

效果:使目標(biāo)獲得【正面效果】增益

3. 執(zhí)迷祭壇

類型:BUFF或DEBUFF

位置:? ? ? ???-?-?-?

效果:使目標(biāo)獲得【正面效果】增益

4. 野心祭壇

類型:BUFF或DEBUFF

位置:? ? ? ???-?-?-?

效果:使目標(biāo)獲得【正面效果】增益

5. 懦弱祭壇

類型:BUFF或DEBUFF

位置:? ? ? ???-?-?-?

效果:使目標(biāo)獲得【正面效果】增益

6. 幻滅終局

類型:遠(yuǎn)程

位置:?-?-?-??? ? ? ?

效果:向目標(biāo)施加【壓力】

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