打破日美壟斷 國產(chǎn)ArF光刻膠取得突破：可用于7nm工藝

作為半導(dǎo)體卡脖子的技術(shù)之一，很多人只知道光刻機(jī)，卻不知道光刻膠的重要性，這個(gè)市場(chǎng)也是被日本及美國公司壟斷，TOP5廠商占了全球85%的份額。

國產(chǎn)光刻膠此前只能用于低端工藝生產(chǎn)線中，能做到G 線(436nm)、I 線 (365nm)水平，目前主要在用的ArF光刻膠還是靠進(jìn)口，EUV光刻膠目前還沒有公司能生產(chǎn)，基本上都控制在日本公司手中。

不過EUV光刻膠也不是急需的，因?yàn)閲鴥?nèi)目前還沒有EUV工藝量產(chǎn)，193nm的ArF光刻膠更加重要，目前國內(nèi)有多家公司正在攻關(guān)中，這種光刻膠可以用于28nm到7nm工藝的先進(jìn)工藝。

今天，南大光電在互動(dòng)平臺(tái)表示，公司的ArF光刻膠正在按計(jì)劃進(jìn)行客戶測(cè)試，這意味著國內(nèi)的ArF光刻膠技術(shù)取得了重要突破，從研發(fā)開始走向生產(chǎn)。

根據(jù)南大光電公司之前的 消息，公司于2017年開始研發(fā)“193nm 光刻膠項(xiàng)目”，已獲得國家“02 專項(xiàng)”的相關(guān)項(xiàng)目立項(xiàng)，公司計(jì)劃通過3年的建設(shè)、投產(chǎn)及實(shí)現(xiàn)銷售，達(dá)到年產(chǎn)25噸 193nm(ArF干式和浸沒式)光刻膠產(chǎn)品的生產(chǎn)規(guī)模，產(chǎn)品將滿足集成電路行業(yè)需求標(biāo)準(zhǔn)。